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光學無源器件

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線性硅納米印章(納米圖案硅片) (尺寸 8.0 x 8.3 mm)（光柵/微透鏡陣列/光色散/勻化

線性硅納米印章(納米圖案硅片) (尺寸 8.0 x 8.3 mm)（光柵/微透鏡陣列/光色散/勻化片）產品總覽 LightSmyth提供了大量的納米加工單晶硅襯底，為工業和學術機構提供了一個低成本的納米光子學研究入口。基底可用于光學、光子學、生物學、化學、物理學（如中子散射）、聚合物研究、納米印跡、微流體學等領域。

更新時間：2025-02-20

產品型號：S2D-24B3-0808-150-P

瀏覽量：1556
線性硅納米印章(納米圖案硅片)（光柵/微透鏡陣列/光色散/勻化片）

線性硅納米印章(納米圖案硅片)（光柵/微透鏡陣列/光色散/勻化片）產品總覽 LightSmyth提供了大量的納米加工單晶硅襯底，為工業和學術機構提供了一個低成本的納米光子學研究入口。基底可用于光學、光子學、生物學、化學、物理學（如中子散射）、聚合物研究、納米印跡、微流體學等領域。

更新時間：2025-02-20

產品型號：SNS-C20-0808-350-D60-P

瀏覽量：1768
1550nm 均勻光柵相位掩模光柵微透鏡 Ibsen丹麥

1550nm 均勻光柵相位掩模光柵微透鏡 Ibsen丹麥產品總覽相位掩膜光柵是通過光柵中晶格形狀和晶體表面傾斜斜角在定位晶格上刻蝕出自身相位特征的特殊構造而形成。

更新時間：2024-12-07

產品型號：

瀏覽量：1759
1538nm 均勻光柵相位掩模（色散勻化片）

1538nm 均勻光柵相位掩模（色散勻化片）產品總覽相位掩膜光柵是通過光柵中晶格形狀和晶體表面傾斜斜角在定位晶格上刻蝕出自身相位特征的特殊構造而形成。

更新時間：2024-12-07

產品型號：MASK-1538-1062-10X10

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1526nm 均勻光柵相位掩模（色散勻化片）

1526nm 均勻光柵相位掩模（色散勻化片）產品總覽相位掩膜光柵是通過光柵中晶格形狀和晶體表面傾斜斜角在定位晶格上刻蝕出自身相位特征的特殊構造而形成。

更新時間：2024-12-07

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